パルス電圧印加方式プラズマ発生装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-368081
公開番号（公開出願番号）：特開2005-100910
出願日： 2003年09月24日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】樹脂基板において微細な回路パターンを形成する場合に、レーザー等により小径のスルーホールやヴィアを形成した後に銅等のメッキする前にこれらの穴中の残渣を除去することが必要である。しかしファイン化に伴い穴径が小さいと液体を使用しては難しいため、プラズマを使用して、多数の基板を同時に品質上問題なく、尚かつ経済的に行うプラズマ装置を提供する。【解決の手段】パルストランスを使用して、1次側に立ち上がり、立ち下がりの速いパルス電圧を印加し、尚かつ2次側のコイル中心を接地して、コイルの両端の出力端子の出力電圧の立ち上がり、立ち下がりを速くすることにより、プラズマ密度を大きくするとともに、パルス電圧のオン時間、オフ時間を制御することにより、発熱を抑制するようにしたプラズマ装置である。尚単一電源で多数の基板を同時処理するために、多数の電極を2次側出力端子にコンデンサーを介して接続して、均一にプラズマ処理を行うため極めて経済的で有効的に行うことを可能とした。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

プラズマを発生させるためのチャンバ中にガスの排気口と導入口を設置し、チャンバは接地する。チャンバ中にパルス電圧発生用のトランスの2次側コイルの中心に端子を出し、接地する。その2次側コイルの両側端子に各々必要とする数の電極を最適の容量を有するコンデンサーを介して並列に接続する。各電極に交互にプラスマイナスの逆の電位になるように電源を接続して、この各電極間に試料を配置する。トランスの1次側には立ち上がり、立ち下がりの速いプラスマイナスの電圧を交互に印加し、トランスの出力側において、立ち上がり、立ち下がりの速い電圧を得るようにして、プラズマ処理することを特徴とするパルス電圧印加方式プラズマ発生装置。

IPC (4件)：

H05H1/24 , B08B7/00 , H05H1/46 , H05K3/42

FI (5件)：

H05H1/24 , B08B7/00 , H05H1/46 A , H05H1/46 R , H05K3/42 610A

Fターム (12件)：

3B116AA02 , 3B116AB01 , 3B116BC01 , 5E317AA24 , 5E317BB01 , 5E317CD01 , 5E317GG16 , 5E343AA07 , 5E343AA12 , 5E343EE08 , 5E343FF23 , 5E343GG20

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