特許
J-GLOBAL ID:200903070909501095

蒸着装置およびこれを用いた薄膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 香川 幹雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-076269
公開番号(公開出願番号):特開平10-265946
出願日: 1997年03月27日
公開日(公表日): 1998年10月06日
要約:
【要約】【課題】真空蒸着法を用いてITOなどの導電性酸化膜を従来よりも高品質かつ安価に作成するために、大電力のプラズマを用いた場合においても蒸発量を安定に保てる蒸着装置を提供する。【解決手段】減圧雰囲気に排気可能な容器内に、蒸発源、基材保持機構、およびプラズマ生成電極をそれぞれ少なくとも一つずつ備え、前記蒸発源は蒸発材料保持具を備え、かつ前記蒸発材料保持具の表面の少なくとも一部と、前記減圧雰囲気に排気可能な容器の壁との間およびアースとの間の直流電気抵抗が10kΩ以上であることを特徴とする蒸着装置。
請求項(抜粋):
減圧雰囲気に排気可能な容器内に、蒸発源、基材保持機構、およびプラズマ生成電極をそれぞれ少なくとも一つずつ備え、前記蒸発源は蒸発材料保持具を備え、かつ前記蒸発材料保持具の表面の少なくとも一部と、前記減圧雰囲気に排気可能な容器の壁との間およびアースとの間の直流電気抵抗が10kΩ以上であることを特徴とする蒸着装置。
IPC (4件):
C23C 14/30 ,  C23C 14/08 ,  H01B 13/00 503 ,  H01B 13/00
FI (6件):
C23C 14/30 A ,  C23C 14/08 C ,  C23C 14/08 D ,  C23C 14/08 N ,  H01B 13/00 503 B ,  H01B 13/00 503 Z

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