特許

J-GLOBAL ID：200903070910898039

ヘプタフルオロシクロペンタンの製造方法

発明者： 高田 直門 ,  弘津 美輝 ,  古俣 武夫
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社 ,  セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-036029
公開番号（公開出願番号）：特開2002-241325
出願日： 2001年02月13日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：

【要約】【課題】 溶剤、洗浄剤などとして有用な1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタンの工業的規模で製造するのに適した方法を提供する。【解決手段】1,1,2-トリクロロヘプタフルオロシクロペンタンを周期律表第VIII族金属からなる水素化触媒の存在下水素により還元して1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタンを製造する。

請求項（抜粋）：

1,1,2-トリクロロヘプタフルオロシクロペンタンを水素化触媒の存在下水素により還元して1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタンを製造する方法であって、水素化触媒が周期律表第VIII族金属であることを特徴とする1,1,2,2,3,3,4-ヘプタフルオロシクロペンタンの製造方法。

IPC (3件)：

C07C 17/23 ,  C07C 23/08 ,  C07B 61/00 300

FI (3件)：

C07C 17/23 ,  C07C 23/08 ,  C07B 61/00 300

Fターム (22件)：

4H006AA02 ,  4H006AC13 ,  4H006BA05 ,  4H006BA07 ,  4H006BA09 ,  4H006BA11 ,  4H006BA12 ,  4H006BA13 ,  4H006BA14 ,  4H006BA15 ,  4H006BA25 ,  4H006BB61 ,  4H006BC10 ,  4H006BC13 ,  4H006BC18 ,  4H006BC31 ,  4H006BC34 ,  4H006BD10 ,  4H006BE20 ,  4H039CA40 ,  4H039CD20 ,  4H039CE40