特許

J-GLOBAL ID：200903070926224763

高伸び銅箔及びその製造方法

発明者： 斎藤 寿雄 ,  森 厚
出願人/特許権者： 日本製箔株式会社
代理人 (1件)： 奥村 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-318943
公開番号（公開出願番号）：特開平11-140564
出願日： 1997年11月04日
公開日（公表日）： 1999年05月25日
要約：

【要約】【課題】 伸び率の高い銅箔を提供する。【解決手段】 この銅箔の元素組成は、銅99.55%以上,酸素0.06%以下,銀0.05〜0.35%及びその他不純物元素よりなる。この銅箔の厚さは、5〜25μmであるのが好ましい。このような銅箔は、銅99.55%以上,酸素0.06%以下,銀0.05〜0.35%及びその他不純物元素よりなる鋳塊に、熱間圧延及び冷間圧延を施して銅箔を得た後、この銅箔に350〜450°Cの温度で焼鈍を施すことによって、容易に得ることができる。なお、この冷間圧延中において、所望により中間焼鈍を挿入しても良い。

請求項（抜粋）：

銅99.55%以上,酸素0.06%以下、銀0.05〜0.35%及びその他不純物元素よりなることを特徴とする高伸び銅箔。

IPC (10件)：

C22C 9/00 ,  B21B 1/40 ,  C22F 1/08 ,  C22F 1/00 622 ,  C22F 1/00 630 ,  C22F 1/00 661 ,  C22F 1/00 683 ,  C22F 1/00 685 ,  C22F 1/00 686 ,  C22F 1/00 691

FI (10件)：

C22C 9/00 ,  B21B 1/40 ,  C22F 1/08 A ,  C22F 1/00 622 ,  C22F 1/00 630 K ,  C22F 1/00 661 Z ,  C22F 1/00 683 ,  C22F 1/00 685 Z ,  C22F 1/00 686 A ,  C22F 1/00 691 B