特許
J-GLOBAL ID:200903070926571170
薄膜NTCサーミスタ素子およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-161903
公開番号(公開出願番号):特開2000-348911
出願日: 1999年06月09日
公開日(公表日): 2000年12月15日
要約:
【要約】【課題】 NTCサーミスタ素子の小型化および抵抗値やB定数の高精度化を実現する。【解決手段】 アルミナから成る下地基板11上に、希土類遷移金属系酸化物のサーミスタ薄膜12と、Pt薄膜から成るくし形電極対13,14とが形成されて成っている。Ptくし形電極には抵抗値調整のためのトリミング部13b、14bを有する。
請求項(抜粋):
希土類遷移金属酸化物からなるNTCサーミスタ薄膜と、前記NTCサーミスタ薄膜上に設けられた電極対からなる薄膜NTCサーミスタ素子。
IPC (3件):
H01C 7/04
, C23C 14/34
, H01C 17/242
FI (3件):
H01C 7/04
, C23C 14/34 A
, H01C 17/24 L
Fターム (23件):
4K029BA50
, 4K029BB07
, 4K029BD00
, 4K029CA05
, 4K029DC05
, 4K029DC09
, 4K029DC16
, 5E032AB01
, 5E032BA15
, 5E032BB10
, 5E032CA00
, 5E032CC08
, 5E032CC14
, 5E032TA03
, 5E032TA17
, 5E032TB02
, 5E034BA09
, 5E034BB08
, 5E034BC01
, 5E034DA03
, 5E034DC05
, 5E034DE14
, 5E034DE16
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