特許

J-GLOBAL ID：200903070934187664

ステージ制御方法および制御装置

発明者： 明野 公信
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-087091
公開番号（公開出願番号）：特開2000-286177
出願日： 1999年03月29日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】 ステージの速度、加速度等の最適化に加えて、描画あるいは検査などの処理終了後から次の移動開始点への移動開始までの時間を短縮し、ひいては描画装置あるいは検査装置のスループットを向上させることが可能なステージ制御方法を提供する。【解決手段】 ステージ移動中に描画処理あるいは検査処理を行なう処理行程の動作条件と、次の処理行程開始点へ移動する移動行程の動作条件を設定し、前記処理行程の後に引き続移動行程を行なう一連の動作開始の指示を行なう動作指示工程2と、前記処理行程の動作条件と、前記移動行程の動作条件を用いて、前記処理行程の開始点から前記移動行程の終点までの一連のステージ動作の制御を行なうステージ動作制御行程3を有する。

請求項（抜粋）：

ステージを移動させて試料の露光を行なう描画装置あるいは試料面の検査を行なう検査装置のステージ制御方法において、前記ステージ移動中に描画処理あるいは検査処理を行なう処理行程の動作条件と、次の処理行程開始点へ移動する移動行程の動作条件とを設定し、前記処理行程の後に引き続き移動行程を行なう一連の動作を指示する動作指示工程と、前記処理行程の動作条件と、前記移動行程の動作条件を用いて、前記処理行程の開始点から前記移動行程の終点までの一連のステージ動作の制御を行なうステージ動作制御行程を有することを特徴とするステージ制御方法。

FI (2件)：

H01L 21/30 541 L ,  H01L 21/30 516 B

Fターム (9件)：

5F046AA18 ,  5F046CC01 ,  5F046CC13 ,  5F046CC16 ,  5F046DA30 ,  5F056AA20 ,  5F056CB23 ,  5F056EA13 ,  5F056EA14