アナターゼ形酸化チタン光触媒担持シリカゲル及びその製法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須藤政彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-104689
公開番号（公開出願番号）：特開2004-305947
出願日： 2003年04月08日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】アナターゼ形酸化チタン光触媒担持シリカゲル及びその製法、並びにその成形体、シート、及び水性塗料組成物を提供する。【解決手段】X線結晶粒子径が2nm〜10nmの範囲にあるアナターゼ形酸化チタン超微粒子を含むアナターゼ形酸化チタン光触媒担持シリカゲルであって、アナターゼ形酸化チタン超微粒子がシリカゲルの内部に担持されていること、少なくとも1000°Cで焼成してもアナターゼの結晶形が維持されること、を特徴とするアナターゼ形酸化チタン光触媒担持シリカゲル、その成形体、シート、水性塗料組成物、及び粉末状及び/又は粒状のシリカゲルとチタン含有溶液を混合することにより、当該チタン含有溶液を当該シリカゲルに含ませた後、水又はお湯に投入して加水分解してから加熱焼成することを特徴とするアナターゼ形酸化チタン光触媒担持シリカゲルの製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

X線結晶粒子径が2nm〜10nmの範囲にあるアナターゼ形酸化チタン超微粒子を含むアナターゼ形酸化チタン光触媒担持シリカゲルであって、アナターゼ形酸化チタン超微粒子がシリカゲルの内部に担持されていること、少なくとも1000°Cで焼成してもアナターゼの結晶形が維持されること、を特徴とするアナターゼ形酸化チタン光触媒担持シリカゲル。

IPC (8件)：

B01J35/02 , B01D53/86 , B01D53/94 , B01J21/08 , C09D5/00 , C09D5/16 , C09D7/12 , C09D201/00

FI (10件)：

B01J35/02 J , B01J21/08 A , C09D5/00 Z , C09D5/16 , C09D7/12 , C09D201/00 , B01D53/36 J , B01D53/36 G , B01D53/36 H , B01D53/36 102D

Fターム (49件)：

4D048AA06 , 4D048AA22 , 4D048AA23 , 4D048AB03 , 4D048AB05 , 4D048BA06X , 4D048BA07X , 4D048BA41X , 4D048BB01 , 4D048EA01 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA02A , 4G069BA02B , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA48A , 4G069BC50A , 4G069BC50B , 4G069CA02 , 4G069CA03 , 4G069CA13 , 4G069CA15 , 4G069CA17 , 4G069DA06 , 4G069EA01X , 4G069EA01Y , 4G069EA07 , 4G069EB18X , 4G069EB18Y , 4G069EC22X , 4G069EC22Y , 4G069ED06 , 4G069FA06 , 4G069FB14 , 4G069FB18 , 4G069FB19 , 4G069FB62 , 4J038BA021 , 4J038BA121 , 4J038CE021 , 4J038CG141 , 4J038DA061 , 4J038DA131 , 4J038HA216 , 4J038KA04 , 4J038MA08 , 4J038MA10 , 4J038NA05

引用特許：

審査官引用 (5件)

光触媒能を有するフィルター
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-271655 出願人：新東工業株式会社
光触媒能を有するハニカムフィルター
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-260200 出願人：新東工業株式会社
光触媒能を有するプリント回路基板
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-189291 出願人：株式会社巴川製紙所

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