特許

J-GLOBAL ID：200903070950676179

基板処理方法及びその装置

発明者： 谷川 修
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-148650
公開番号（公開出願番号）：特開平10-321698
出願日： 1997年05月21日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：

【要約】【課題】 基板収容空間が大気圧又はほぼ大気圧である密閉型の基板カセット(クロ-ズ型カセット)を陽圧雰囲気の搬入室内に開放するするにあたり、基板カセットの蓋体を開きやすくすること。【解決手段】 作業領域S1とロ-ディングエリアS2とを区画する壁部21の開口部21aに、クロ-ズ型カセット3を作業領域S1のステ-ジ41上に載置することにより装着する。ステ-ジ41上にカセット3が載置されると、スイッチ5からコントロ-ラCに信号が出力されて、開閉バルブV1が閉じられ、ロ-ディングエリアS2への窒素ガスの供給が停止する。20〜30秒後カセット3の蓋体32を開き、次いで窒素ガスの供給を開始する。窒素ガスの供給を停止することにより、ロ-ディングエリアS2内とカセット3内との差圧をより小さくしてから蓋体32を開くので、容易に蓋体32を開くことができる。

請求項（抜粋）：

基板収容空間が大気圧又はほぼ大気圧の状態であって常時密閉されている基板カセットから不活性ガス雰囲気の搬入室内に基板を搬入し、その後この基板を処理する方法において、前記搬入室内に不活性ガスを供給して当該搬入室内を不活性ガスによる陽圧雰囲気にする工程と、前記基板カセットの蓋体を開く少し前に、前記不活性ガスの供給を停止する工程と、次いで前記基板カセットの蓋体を開けて基板収容空間を搬入室内に開放する工程と、その後前記不活性ガスの供給を再開して搬入室内を不活性ガスによる陽圧雰囲気にする工程と、を含むことを特徴とする基板処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/205

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/22 511 J ,  H01L 21/205