特許
J-GLOBAL ID:200903070967730746

配線状パターン検査方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (9件): 中村 稔 ,  大塚 文昭 ,  熊倉 禎男 ,  宍戸 嘉一 ,  今城 俊夫 ,  小川 信夫 ,  村社 厚夫 ,  西島 孝喜 ,  箱田 篤
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-169345
公開番号(公開出願番号):特開2005-003600
出願日: 2003年06月13日
公開日(公表日): 2005年01月06日
要約:
【課題】オフセット手法を用いずにレーザー光自動焦点システムを用いた焦点調整機能を具備した撮像系を用いて、基板状に段差を有する微細な配線状パターンの幅を簡便に測定する方法を提供する。【解決手段】基板上に設けた段差を有する微細な配線状パターンの表面と同じ高さを有する焦点合わせ用パターン2を基板上に予め設けておき、前記焦点合わせ用パターン2表面に撮像系の焦点を合わせることにより、従来焦点を合わせることができず、オフセット手法によっても十分に検査できなかった配線状パターンの幅を検査する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
基板上に設けられた、前記基板表面から段差を有する配線状パターンを焦点調整機能を具備した撮像系を用いて検査する方法であって、前記配線状パターンと同じ高さを有する、前記基板上に設けられた焦点合わせ用パターン表面に前記撮像系の焦点を合わせ、前記焦点位置を利用して前記配線状パターンを検査することを特徴とする方法。
IPC (3件):
G01B11/02 ,  G02B7/28 ,  H01L21/66
FI (3件):
G01B11/02 H ,  H01L21/66 J ,  G02B7/11 H
Fターム (13件):
2F065AA21 ,  2F065BB02 ,  2F065CC19 ,  2F065FF04 ,  2F065FF10 ,  2F065GG04 ,  2F065LL04 ,  2F065RR07 ,  2H051AA15 ,  4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106BA10 ,  4M106CA40
引用特許:
審査官引用 (5件)
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