特許

J-GLOBAL ID：200903070973949784

光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット

発明者： 姜 仁鎬 ,  小田 淳一
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-102100
公開番号（公開出願番号）：特開2000-297362
出願日： 1999年04月09日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】 光ビームを用いて情報の記録および消去を行う光ディスクなどの光メディアの作製に用いられる均一な厚さの光記録保護膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】 二酸化ケイ素:10〜30mol%を含有し、残りが硫化亜鉛からなる組成を有する焼結体からなるスパッタリングターゲットにおいて、前記硫化亜鉛はα型結晶とβ型結晶の相比(α/β)が0≦α/β<0.0005の範囲内にある。

請求項（抜粋）：

二酸化ケイ素:10〜30mol%を含有し、残りが硫化亜鉛からなる組成を有する焼結体からなるスパッタリングターゲットにおいて、前記硫化亜鉛はα型結晶とβ型結晶の相比(α/β)が0≦α/β<0.0005の範囲内にあることを特徴とする光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット。

IPC (2件)：

C23C 14/34 ,  C04B 35/547

FI (2件)：

C23C 14/34 A ,  C04B 35/00 T

Fターム (10件)：

4G030AA37 ,  4G030AA56 ,  4G030CA01 ,  4G030GA16 ,  4G030GA29 ,  4K029BD12 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC12