特許

J-GLOBAL ID：200903070977279406

粒子、とくにイオン光学描写装置

発明者： アルフレツド チヤルプカ ,  ゲルハルト シユテングル ,  ヘルベルト ブオナツハ
出願人/特許権者： イーエムエス イオーネン ミクロファブリカチオンス ジステーメ ゲゼルシャフト ミト ベシュレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 小林 和憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-070341
公開番号（公開出願番号）：特開平6-013280
出願日： 1993年03月29日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：

【要約】【目的】 普通の電極形状を有する回転対称の静電レンズの形の集束レンズに起こる画像欠陥を回避または克服することにある。【構成】 ウエハーW上に少なくとも2つのマスクMとウエハーWとの間にある集束レンズL1,L2を介して1またはそれ以上の開口の形においてマスク上にある構造描写のための粒子、とくにイオン源を備えた、リソグラフイーに好適な粒子、とくにイオン光学描写装置における前記集束レンズL1,L2の少なくとも1つがそれらの間に第3の電極がある2つの管状電球R1,R2からなる3つの電極のレンズであり、前記第3電極が多数の開口を備えたプレートとして、好ましくはグリツドGとして形成され、該グリツドGは光軸Dに対して直角に配置され、前記グリツドGにより前記集束レンズL1またはL2を2つの区域P,Nに分割し、前記3つの電極R1,R2,Gに異なる電圧U1,U2,U3を印加する。

請求項（抜粋）：

ウエーハ上に少なくとも2つのマスクとウエーハとの間にある集束レンズを介して1またはそれ以上の開口の形においてマスク上にある構造描写のための粒子、とくにイオン源を備えた、リソグラフイに好適な粒子、とくにイオン光学描写装置において、前記集束レンズ(L1,L2)の少なくとも1つがそれらの間に第3の電極がある2つの管状電極(R1,R2)からなる3つの電極のレンズであり、前記第3電極が多数の開口を備えたプレートとして、好ましくはグリツド(G)として形成され、そのさいプレートとくにグリツド(G)は光軸(D)に対して直角に配置され、その結果前記プレートまたは前記グリツド(G)により前記レンズ(L1またはL2)が2つの区域(P,N)に分割され、そのさい好ましくは前記3つの電極(R1,R2,G)に異なる電圧(U1,U2,U3)が印加されることを特徴とする粒子、とくにイオン光学描写装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 506

FI (2件)：

H01L 21/30 351 ,  H01L 21/30 341 A