グラファイト・ナノ・ファイバー成膜方法及び装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八木田茂 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-089468
公開番号（公開出願番号）：特開2001-279441
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：

【要約】【課題】比較的大きな基板において均一にグラファイト・ナノ・フアイバーを成膜できる方法及び装置を提供する。【解決手段】本発明によるグラファイト・ナノ・ファイバーの成膜方法は、予め所定のレベルまで排気した真空チャンバー内に配置した基板ホルダー上の試料基板を赤外線ランプで加熱し、原料ガス及び水素ガスの混合ガスを約1気圧に調整して真空チャンバー内へ導入し、原料ガスが赤外線ランプで加熱されることなく試料基板に到達するように構成される。また、本発明のグラファイト・ナノ・フアイバー成膜装置は、基板ホルダーに対向した真空チャンバーの壁に赤外線透過窓部を設け、この赤外線透過窓部の外側に、基板加熱用の赤外線ヒーターを設け、真空チャンバー内をほぼ大気圧にして赤外線ヒーターにより基板を加熱した状態でグラファイト・ナノ・ファイバーを基板上に成膜するように構成したことを特徴としている。

請求項（抜粋）：

予め所定のレベルまで排気した真空チャンバー内に配置した基板ホルダー上の試料基板を赤外線ランプで加熱し、原料ガス及び水素ガスの混合ガスの流量を調整して真空チャンバー内へ導入し、原料ガスが赤外線ランプで加熱されることなく試料基板に到達するようにし、真空チャンバー内の圧力を約1気圧に維持して試料基板上に均一にグラファイト・ナノ・ファイバーを成膜することから成るグラファイト・ナノ・ファイバー成膜方法。

IPC (4件)：

C23C 16/26 , C01B 31/02 101 , D01F 9/133 , H01J 9/02

FI (4件)：

C23C 16/26 , C01B 31/02 101 F , D01F 9/133 , H01J 9/02 B

Fターム (23件)：

4G046CA02 , 4G046CB01 , 4G046CB03 , 4G046CB08 , 4G046CC06 , 4K030AA10 , 4K030AA17 , 4K030BA27 , 4K030CA02 , 4K030CA12 , 4K030FA10 , 4K030HA13 , 4K030HA15 , 4K030JA09 , 4K030JA10 , 4K030KA26 , 4K030LA18 , 4L037CS04 , 4L037FA03 , 4L037PA06 , 4L037PA17 , 4L037PA28 , 4L037UA20

引用特許：

審査官引用 (3件)

カーボンナノチューブデバイス、その製造方法及び電子放出素子
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-276426 出願人：キヤノン株式会社
グラファイトナノチューブ付き基体デバイス及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-261181 出願人：三洋電機株式会社
特許第3100962号

前のページに戻る