特許
J-GLOBAL ID:200903070984150516
酸変性ポリフェニレンエーテルの製造法及びポリスチレン系樹脂組成物
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大谷 保
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-116733
公開番号(公開出願番号):特開平8-311196
出願日: 1995年05月16日
公開日(公表日): 1996年11月26日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 作業環境を悪化せずに安定生産が可能であり、分子量低下が抑制された酸変性ポリフェニレンエーテルの簡便な製造方法を開発し、得られた酸変性ポリフェニレンエーテルを用いて高い靱性を発現するポリスチレン系樹脂組成物。【構成】 (a)ポリフェニレンエーテル100重量部に対し、(b)フマル酸又はフマル酸誘導体0.5〜5.0重量部及び、必要に応じて(c)ラジカル発生剤0.1〜3.0重量部を用い、実質的に無溶媒下に300〜350°Cで変性反応を行う酸変性ポリフェニレンエーテルの製造法、さらに、(d)シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体100重量部または、このスチレン系重合体及びゴム状弾性体及び/又はポリアミドの合計量100重量部に対し、(e)酸変性ポリフェニレンエーテル0.5〜5.0重量部及び、必要に応じて(f)無機充填材0.5〜350重量部を含有する。
請求項(抜粋):
(a)ポリフェニレンエーテル100重量部に対し、(b)フマル酸又はフマル酸誘導体0.5〜5.0重量部を用い、実質的に無溶媒下に300〜350°Cで変性反応を行うことを特徴とする酸変性ポリフェニレンエーテルの製造法。
IPC (16件):
C08G 65/48 NQU
, C08K 3/00 KFV
, C08K 7/14 KGC
, C08K 9/04 KGD
, C08L 21/00 LCH
, C08L 21/00 LCU
, C08L 21/00 LCV
, C08L 25/00 LDR
, C08L 25/00 LED
, C08L 25/00 LEE
, C08L 77/00 LQS
, C08L 77/00 LQV
, C08L 25/00
, C08L 71:12
, C08L 21:00
, C08L 77:00
FI (12件):
C08G 65/48 NQU
, C08K 3/00 KFV
, C08K 7/14 KGC
, C08K 9/04 KGD
, C08L 21/00 LCH
, C08L 21/00 LCU
, C08L 21/00 LCV
, C08L 25/00 LDR
, C08L 25/00 LED
, C08L 25/00 LEE
, C08L 77/00 LQS
, C08L 77/00 LQV
引用特許:
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