特許

J-GLOBAL ID：200903070984672059

金属配線の製造方法

発明者： 水谷 文一 ,  鷹羽 寛 ,  宇恵 誠 ,  鴨下 康夫 ,  土屋 敦
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 釜田 淳爾 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-135651
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306913
出願日： 1999年05月17日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】 低い比抵抗を保ちながらヒロックの発生を効果的に抑制することができるアルミニウム含有金属配線の製造方法を提供すること。【解決手段】 0.01重量%以上8重量%以下の希土類元素を含むアルミニウム配線を、無機オキソ酸の塩または有機カルボン酸の塩を含む非水溶液中で陽極酸化することにより、該アルミニウム配線に酸化物皮膜を形成する工程を含む金属配線の製造方法。

請求項（抜粋）：

0.01重量%以上8重量%以下の希土類元素を含むアルミニウム配線を、無機オキソ酸の塩または有機カルボン酸の塩を含む非水溶液中で陽極酸化することにより、該アルミニウム配線に酸化物皮膜を形成する工程を含む金属配線の製造方法。

IPC (4件)：

H01L 21/3205 ,  C25D 11/06 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 29/786

FI (4件)：

H01L 21/88 N ,  C25D 11/06 C ,  G02F 1/1343 ,  H01L 29/78 612 C

Fターム (33件)：

2H092HA06 ,  2H092JA03 ,  2H092JA25 ,  2H092JA26 ,  2H092JB31 ,  2H092MA05 ,  2H092MA07 ,  2H092MA17 ,  2H092MA24 ,  2H092MA29 ,  2H092NA25 ,  2H092NA28 ,  5F033HH10 ,  5F033QQ74 ,  5F033QQ89 ,  5F033RR03 ,  5F033VV06 ,  5F033VV15 ,  5F033WW00 ,  5F033WW04 ,  5F033XX10 ,  5F033XX16 ,  5F110CC05 ,  5F110CC07 ,  5F110DD02 ,  5F110EE34 ,  5F110FF01 ,  5F110FF03 ,  5F110FF09 ,  5F110FF24 ,  5F110FF29 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13