特許

J-GLOBAL ID：200903070998944345

軟磁性膜と薄膜磁気ヘッドとこれらの製造方法

発明者： 小西池 勇 ,  菅原 伸浩
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-242423
公開番号（公開出願番号）：特開2003-059717
出願日： 2001年08月09日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】 高飽和磁束密度Bsを有するFeCoNiメッキ膜における応力が大きいという課題を従来におけるような硫黄Sの添加を行わずして、応力の低減化を図って、膜厚の大なるメッキ膜を実現する。【解決手段】 本発明による軟磁性膜1は、FeCoNiを主成分とする複数の軟磁性薄膜層を主層2とし、これら軟磁性薄膜層間に配置されたFeNiもしくはFeCoNiを主成分とする副層3との積層膜構成とする。このようにして、副層3による中間層の存在によって応力の低減化を図ることができ、膜厚の大きい磁性薄膜の形成、またこの応力の低減化から、その成膜における電気メッキの通電電流を大とすることができて、成膜時間の短縮化を図ることができる。

請求項（抜粋）：

それぞれFeCoNiを主成分とする軟磁性薄膜層による複数の主層と、これら主層間にFeNi副層が配置された積層膜構成とされたことを特徴とする軟磁性膜。

IPC (5件)：

H01F 10/16 ,  G11B 5/31 ,  H01F 41/18 ,  H01F 41/20 ,  H01F 41/26

FI (5件)：

H01F 10/16 ,  G11B 5/31 C ,  H01F 41/18 ,  H01F 41/20 ,  H01F 41/26

Fターム (15件)：

5D033AA01 ,  5D033BA01 ,  5D033BA03 ,  5D033BA08 ,  5D033DA02 ,  5D033DA03 ,  5D033DA04 ,  5D033DA31 ,  5E049AA04 ,  5E049AA07 ,  5E049CB01 ,  5E049DB12 ,  5E049GC01 ,  5E049HC05 ,  5E049LC01