特許

J-GLOBAL ID：200903071011493912

フォトレジスト用剥離液

発明者： 田口 敏 ,  末次 益実
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-187051
公開番号（公開出願番号）：特開平9-034129
出願日： 1995年07月24日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：

【要約】【課題】 特殊なリンス液によるリンス処理を必要とせず、かつ高温でポストベークされたフォトレジスト膜やプラズマやイオンに曝されたフォトレジスト膜に対しても優れた剥離性能及び溶解性能を発現し得るフォトレジスト用剥離液を提供する。【解決手段】 基板上に塗布されたフォトレジスト膜を除去するための剥離液であって、下記(A)成分、(B)成分及び(C)成分からなり、(A)成分の含有量が5〜38重量%であり、(B)成分及び(C)成分の合計含有量が95〜62重量%であり、かつ(C)成分/(B)成分の重量比が0.05〜0.8であるフォトレジスト用剥離液。(A):アミノアルコール(B):N,N-ジメチルホルムアミド(C):グリコールモノアルキルエーテル

請求項（抜粋）：

基板上に塗布されたフォトレジスト膜を除去するための剥離液であって、下記(A)成分、(B)成分及び(C)成分からなり、(A)成分の含有量が5〜38重量%であり、(B)成分及び(C)成分の合計含有量が95〜62重量%であり、かつ(C)成分/(B)成分の重量比が0.05〜0.8であるフォトレジスト用剥離液。(A):アミノアルコール(B):N,N-ジメチルホルムアミド(C):グリコールモノアルキルエーテル

IPC (3件)：

G03F 7/32 ,  C23F 1/00 104 ,  G03F 7/38 511

FI (3件)：

G03F 7/32 ,  C23F 1/00 104 ,  G03F 7/38 511