特許
J-GLOBAL ID：200903071018290561
補助パターン型位相シフトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-078435
公開番号（公開出願番号）：特開平6-289591
出願日： 1993年04月06日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】【目的】微細なコンタクトホール等の形成に適している補助パターン型位相シフトマスクの2つの主開口が近接する場合にもそれぞれの補助開口どうしが部分的に重なり合ったり接近したりして大きくなり過ぎないようにして、主開口の配置の自由度を向上させること。【構成】(1)主開口110の反対側に位置する補助開口120L,120Tと120R,120Bどうしは、主開口部の中心位置に対して互いに反対側にずらして配置する。あるいは、(2)複数補助開口を所定ピッチで飛び石状にし、主開口部の反対側に位置する補助開口部どうしは、2つの主開口部が近接する場合にもそれぞれの補助開口部どうしが部分的に重なり合ったり接近したりして大きくなり過ぎないようにする。
請求項（抜粋）：
長方形状の主開口およびその4辺にそれぞれ近接して配置された補助開口を有する遮光膜と、前記主開口および補助開口をそれぞれ透過する光線の位相に180度の差をつけるシフター膜とを有する補助パターン型位相シフトマスクにおいて、前記補助開口のそれぞれの一端を前記主開口の最近接辺の中点に対応する位置に配置し、前記主開口を挟んで位置する2つの前記補助開口どうしは、前記開口の中心位置に対して点対称に配置され、前記主開口と補助開口とからなる2つの組が近接する場合にも2つの補助開口部どうしが重なり合わないようにしたことを特徴とする補助パターン型位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
