特許

J-GLOBAL ID：200903071035774980

染毛前処理剤組成物

発明者： 北野 宏樹 ,  石川 良治
出願人/特許権者： ホーユー株式会社
代理人 (2件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-252397
公開番号（公開出願番号）：特開2007-063199
出願日： 2005年08月31日
公開日（公表日）： 2007年03月15日
要約：

【課題】 毛髪の感触を悪化させることなく、染毛処理に伴う毛髪損傷を抑制し、それにより染料の流出を防ぎ、色持ちを向上させることができる染毛前処理剤組成物を提供する。【解決手段】 染毛前処理剤組成物において、(A)L-テアニン及び(B)水溶性高分子を含有する。さらに、好ましくは(C)水溶性シリコーンが含有される。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)L-テアニン及び(B)水溶性高分子を含有することを特徴とする染毛前処理剤組成物。

IPC (2件)：

A61K 8/00 ,  A61Q 5/00

FI (1件)：

A61K7/06

Fターム (24件)：

4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC182 ,  4C083AC432 ,  4C083AC542 ,  4C083AC641 ,  4C083AC642 ,  4C083AC692 ,  4C083AD072 ,  4C083AD092 ,  4C083AD112 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD272 ,  4C083AD282 ,  4C083AD352 ,  4C083BB36 ,  4C083CC31 ,  4C083EE03 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE26 ,  4C083EE29

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 半導体レーザの駆動回路
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-275888   出願人：三洋電機株式会社

審査官引用 (7件)

• 毛髪化粧料および毛髪処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-146356   出願人：タカラベルモント株式会社
• 毛髪処理剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-345066   出願人：ホーユー株式会社
• 保湿剤及びそれを含有する皮膚外用剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-102437   出願人：株式会社コーセー, 太陽化学株式会社
• 染毛用前処理剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-093883   出願人：ホーユー株式会社
• 染毛用前処理剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-120457   出願人：株式会社成和化成
• 染毛用前処理剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-121096   出願人：カネボウ株式会社
• 染毛用前処理剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-301879   出願人：ホーユー株式会社