特許

J-GLOBAL ID：200903071037764981

真空処理装置及び真空処理方法

発明者： 村山 仁 ,  田澤 大介 ,  細井 一人 ,  白砂 寿康 ,  大塚 崇志 ,  青池 達行 ,  秋山 和敬
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-081229
公開番号（公開出願番号）：特開平11-345779
出願日： 1999年03月25日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：

【要約】【課題】本発明は、反応容器と排気装置の着脱を容易に、確実に、迅速に行える装置構成及び方法を実現し、生産システムの簡素化、低コスト化が達成可能な真空処理装置及び真空処理方法を提供することを目的としている。【解決手段】本発明は、減圧可能な反応容器と、前記反応容器内に活性ガスを供給する手段と、該反応容器を減圧にするための排気手段とを有し、前記反応容器に設けられた開口を形成する部材と、前記排気手段に設けられた開口を形成する部材とが互いに連通する真空処理装置または真空処理方法において、前記反応容器に設けられた前記開口の開口径は前記排気手段に設けられた前記開口の開口径と異なることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

減圧可能な反応容器と、前記反応容器内に活性ガスを供給する手段と、該反応容器を減圧にするための排気手段とを有し、前記反応容器に設けられた開口を形成する部材と、前記排気手段に設けられた開口を形成する部材とが互いに連通する真空処理装置において、前記反応容器に設けられた前記開口の開口径は前記排気手段に設けられた前記開口の開口径よりも小さいことを特徴とする真空処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ,  B01J 3/02 ,  C23C 16/44 ,  G03G 5/08 105

FI (4件)：

H01L 21/205 ,  B01J 3/02 M ,  C23C 16/44 D ,  G03G 5/08 105