特許

J-GLOBAL ID：200903071044352974

磁気記録媒体の製造方法

発明者： 廣野 滋 ,  五十嵐 賢
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-206935
公開番号（公開出願番号）：特開平9-054950
出願日： 1995年08月14日
公開日（公表日）： 1997年02月25日
要約：

【要約】【課題】 高い媒体SN比を実現するために必須な極めて微細な組成分離構造を有する磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】 発散形の磁界の中に備えられたプラズマ生成室にプラズマ用ガスおよびマイクロ波を導入して電子サイクロトロン共鳴により該プラズマ生成室にプラズマを生成する工程と、前記磁界により前記プラズマ生成室のプラズマ引き出し窓から前記プラズマを成膜室に引き出す工程と、この引き出されたプラズマ流を囲むように同軸状に配置されたCoCr系合金からなるターゲットを前記プラズマでスパッタすることにより、前記成膜室に設置した基板上に薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記プラズマ室から引き出されたプラズマの一部を前記基板に照射することとし、そのプラズマイオン照射量を0.5mA/cm2 以下に設定する。

請求項（抜粋）：

発散形の磁界の中に備えられたプラズマ生成室にプラズマ用ガスおよびマイクロ波を導入して電子サイクロトロン共鳴により該プラズマ生成室にプラズマを生成する工程と、前記発散形の磁界により、前記プラズマ生成室のプラズマ引き出し窓から前記プラズマを成膜室に引き出す工程と、前記引き出されたプラズマ流を囲むように同軸状に配置されたCoCr系合金からなるターゲットを前記プラズマでスパッタすることにより、前記成膜室に設置した基板上に薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記プラズマ生成室から引き出されたプラズマの一部を前記基板に照射することとし、そのプラズマイオン照射量を0.5mA/cm2 以下に設定することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (4件)：

G11B 5/85 ,  C23C 14/34 ,  C23C 14/35 ,  G11B 5/66

FI (4件)：

G11B 5/85 C ,  C23C 14/34 R ,  C23C 14/35 F ,  G11B 5/66