特許

J-GLOBAL ID：200903071046325753

電子線露光装置の装置較正用基準マーク及び装置較正 方法

発明者： 中島 謙
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 煤孫 耕郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-346268
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183360
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：

【要約】【目的】 電子線露光装置を較正する際に用いられる較正用基準マーク(メタルの段差)から得られる反射電子信号の強度(ピーク値)を落とすことなく、S/N比を向上させ、装置構成精度の劣化を防ぐ。【構成】 図1に示す、軽元素の基板(11)の平坦部(8)上に0.5〜1.0μm程度の重金属薄膜(9)を成膜する事により、バックグラウンドノイズの原因となる平坦部(8)からの反射電子信号を低減させ、S/N比を向上させる。

請求項（抜粋）：

半導体基板上もしくは薄膜上に設けた電子線エネルギを吸収し反応するレジスト膜を電子線を用いて露光し、所望のパターンを形成する電子線露光装置の装置較正時において、高精度な較正を可能にする軽元素の下地基板上を重金属の薄膜で被覆してあり、更に同一の重金属の段差を有した構造を特徴とする装置較正用基準マーク。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平1-117029
  
• 特開昭58-102523
  
• 特開昭64-030220
  
• 特開昭61-054621