特許
J-GLOBAL ID:200903071067370147
透明石英ガラスとその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-115435
公開番号(公開出願番号):特開2000-026125
出願日: 1993年02月05日
公開日(公表日): 2000年01月25日
要約:
【要約】【課題】エキシマレーザー照射に対しても構造欠陥による吸収帯または蛍光発光の少ない、フォトマスク基板に適応可能な、透明石英ガラスとその製造方法の提供。【解決手段】OH含有量10ppm以下、ハロゲン(特にフッ素)含有量400ppm以上、かつ水素分子を含有させたエキシマレーザー耐性を有する透明石英ガラスとその製造方法。
請求項(抜粋):
ガラス形成原料を火炎加水分解させて得られる石英ガラス微粒子を基材に堆積・成長させて形成された多孔質石英ガラス体を加熱して得られる透明石英ガラスにおいて、該透明石英ガラス中のOH含有量が10ppm以下であって、ハロゲンを400ppm以上含有し、かつ水素を含有する透明石英ガラス。
IPC (4件):
C03B 20/00
, C03B 8/04
, C03C 3/06
, G03F 1/00
FI (4件):
C03B 20/00 F
, C03B 8/04 P
, C03C 3/06
, G03F 1/00 Z
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開昭62-153133
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特開平3-034419
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特開平4-108627
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