特許

J-GLOBAL ID：200903071078145412

高分子多孔質体の製造方法

発明者： 陳 国平 ,  立石 哲也 ,  牛田 多加志
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-349085
公開番号（公開出願番号）：特開2002-146084
出願日： 2000年11月16日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：

【要約】【課題】空隙率や細孔径などのポア構造を制御することが容易で、洗浄を必要とせず、しかも多孔質化剤を簡単に除去できる、工業的に有利な高分子多孔質体の製造方法を提供する。【解決手段】高分子溶液と凍結乾燥後に気体となる固体物質からなる多孔質化剤との混合物を凍結乾燥する。

請求項（抜粋）：

高分子溶液と、凍結乾燥後に気体となる固体物質からなる多孔質化剤との混合物を、凍結乾燥することを特徴とする高分子多孔質体の製造方法。

IPC (5件)：

C08J 9/26 CER ,  C08J 9/26 CEZ ,  A61K 47/34 ,  A61L 27/00 ,  C08L101:00

FI (5件)：

C08J 9/26 CER ,  C08J 9/26 CEZ ,  A61K 47/34 ,  A61L 27/00 Y ,  C08L101:00

Fターム (26件)：

4C076BB32 ,  4C076DD43 ,  4C076EE24 ,  4C076FF02 ,  4C076GG06 ,  4C081AB01 ,  4C081AB11 ,  4C081BA16 ,  4C081CA172 ,  4C081CB012 ,  4C081DB03 ,  4C081EA01 ,  4C081EA12 ,  4F074AA01 ,  4F074AA02 ,  4F074AA09 ,  4F074AA13 ,  4F074AA17 ,  4F074AA24 ,  4F074AA35 ,  4F074AA48 ,  4F074AA65 ,  4F074BA32 ,  4F074BA34 ,  4F074CC28Y ,  4F074CC30Y