特許

J-GLOBAL ID：200903071079615315

基板処理用のチャンバ装置

発明者： 宇野 宏
出願人/特許権者： タツモ株式会社
代理人 (1件)： 板谷 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-392066
公開番号（公開出願番号）：特開2002-195748
出願日： 2000年12月25日
公開日（公表日）： 2002年07月10日
要約：

【要約】【課題】 基板処理用のチャンバ装置において、チャンバ部材を固定し、下部チャンバ部材を昇降させてチャンバを開閉するようにして、チャンバ内部のメンテナンス時に、下部チャンバ部材は下方に降りた状態になり、チャンバ内部のメンテナンスを安全に行なえるようにする。【解決手段】 上下開閉式チャンバを備えたチャンバ装置において、上部チャンバ2を固定した構造とし、下部チャンバ3を昇降自在な構造とし、下部チャンバ3の昇降によりチャンバを開閉し、チャンバ開時には下部チャンバ3が下方に降りた状態となり、下部チャンバ3を装置前方に引き出すことができる。これにより、組立、調整やチャンバー内部のメンテナンスを容易に行なえる。

請求項（抜粋）：

被処理基板が挿入される空間を形成する上下開閉式チャンバを備えたチャンバ装置において、上部チャンバを固定した構造とし、下部チャンバを昇降自在な構造とし、この下部チャンバの昇降によりチャンバを開閉し、チャンバ開時には下部チャンバが下方に降りた状態となるようにしたことを特徴とする基板処理用のチャンバ装置。

IPC (4件)：

F26B 5/04 ,  B01J 3/00 ,  B01J 3/03 ,  H01L 21/304 651

FI (4件)：

F26B 5/04 ,  B01J 3/00 J ,  B01J 3/03 J ,  H01L 21/304 651 Z

Fターム (5件)：

3L113AA03 ,  3L113AC24 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34 ,  3L113DA22

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 減圧処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-024984   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 真空乾燥機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-105972   出願人：黒崎炉工業株式会社, 新日本製鐵株式会社