基板洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-095820
公開番号（公開出願番号）：特開平7-283185
出願日： 1994年04月08日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：

【要約】【目的】基板をスムースに搬送しながら効率良く洗浄するとともに、洗浄した異物が再付着する心配がなく、種々の基板サイズにも対応可能とする。【構成】ウェーハ31の裏面側は、水平方向に対して所定角度傾斜させて配列された搬送ローラ27,28,29によって支持されるとともに、ウェーハ31の傾斜方向下側の端面は、基板端面支持板30に突き当てて支持されている。そして、ウェーハ31の洗浄を行う場合は、傾斜した状態で支持されたウェーハ31を搬送ローラ27,28,29と基板端面支持板30とを回転駆動することにより水平方向に搬送しながら、基板洗浄装置21の上方に配置された洗浄水噴射ノズル22から高圧で洗浄水23を噴射してウェーハ31上の異物を除去する。このように、種々のサイズの基板に対応可能であって、効率の良い洗浄が行える。

請求項（抜粋）：

基板を斜めに支持するとともに所定方向に搬送する基板搬送手段と、搬送される前記基板に向けて前記基板の搬送方向と直角の幅方向全域に亘り洗浄水を噴射する洗浄水噴射手段と、搬送される前記基板の幅方向両端面の内の一方の端面を支持する基板端面支持手段とを備えたことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , B08B 3/02 , H01L 21/68

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