特許
J-GLOBAL ID:200903071090895729

プラズマディスプレイの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-112608
公開番号(公開出願番号):特開平9-306341
出願日: 1996年05月07日
公開日(公表日): 1997年11月28日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 高アスペクト比かつ高精度のパターンを可能にする簡便な隔壁の形成方法を提供する。【解決手段】 ガラス基板1上に光反応性有機成分とガラス粉末を必須成分とする感光性ガラスペースト2を塗布後、フォトマスク3を用いて、ガラス面の両面から露光を行い、光照射された部分又は光の照射されていない部分を現像により溶出し、パターン4を形成した後、焼成により有機物を除去して隔壁層を形成する。又ガラス基板上に遮光性のパターンを形成した後、光反応性有機成分とガラス粉末を必須成分とする感光性ガラスペーストを塗布し、ガラス面の両面から露光を行い、光照射された部分又は光の照射されていない部分を現像により溶出し、パターンを形成した後、焼成により有機物を除去して隔壁層を形成する。
請求項(抜粋):
ガラス基板上に光反応性有機成分とガラス粉末を必須成分とする感光性ガラスペーストを塗布後、フォトマスクを用いて、感光性ガラスペーストを塗布した塗布面、および該塗布面の裏面であるガラス面の両面から露光を行い、光照射された部分もしくは光の照射されていない部分を現像により溶出し、パターンを形成した後、焼成により有機物を除去して隔壁層を形成することを特徴とするプラズマディスプレイの製造方法。

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