特許

J-GLOBAL ID：200903071093649095

情報計測手段を備えた被処理基板

発明者： 曽我 春昭 ,  森 義明
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-317367
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163340
出願日： 1992年11月26日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 どのような構成の真空装置であっても、被処理基板の表面状態または周囲環境を示す情報を簡単に計測可能とし、さらにはプロセス全般に渡って前記情報を連続的に計測できる方法を提供することを目的とする。【構成】 半導体ウェハー1またはガラス基板である被処理基板9表面の状態、あるいは前記被処理基板周囲の環境を示す情報の計測手段の一部あるいは全てを、前記被処理基板上の回路6あるいは素子として形成する。あるいは、前記被処理基板上に情報計測手段からセンサー部を除いた情報計測処理回路6の、一部あるいは全てを具備する。

請求項（抜粋）：

半導体ウェハーまたはガラス基板である被処理基板表面の状態、あるいは前記被処理基板周囲の環境を示す情報の計測手段において、前記情報の計測手段の一部あるいは全てを、前記被処理基板上の回路あるいは素子として形成することを特徴とする、情報計測手段を備えた被処理基板。

IPC (4件)：

H01L 21/02 ,  G01D 21/00 ,  H01L 21/66 ,  G02F 1/13 101

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-169411
  
• 特開昭57-211696