特許
J-GLOBAL ID:200903071095248829
ガスの処理法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
加藤 朝道 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-108517
公開番号(公開出願番号):特開2000-300937
出願日: 1999年04月15日
公開日(公表日): 2000年10月31日
要約:
【要約】【課題】有機溶剤ガス等の有機質ガスを含有する気体(排ガス等)を効率よく、かつ低コストで簡便に目的とするガス成分を分解、その他で除去することができる優れたガス処理法を開発する。【解決手段】ガス処理塔内で有機質ガス成分を含む被処理ガスとガス処理液との気液接触を行い、当該ガス処理塔内での気液接触後に得られた気体の一部を、再度ガス処理塔内でガス処理液と接触せしめて、当該処理液に溶解する有機質ガス成分を、好ましくは微生物学的処理方法を用いて、分解又は除去することにより目的とする被処理ガスを極めて効率よく処理することができる。
請求項(抜粋):
ガス処理塔内で有機質ガス成分を含む被処理ガスとガス処理液との気液接触を行い、当該ガス処理塔内での気液接触後に得られた気体の少なくとも一部を、再度ガス処理塔内でガス処理液と接触せしめて、前記ガス処理液に溶解する有機質ガス成分を分解又は除去することを特徴とするガスの処理法。
IPC (4件):
B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/77 ZAB
, B01D 53/44
, B01D 53/77
FI (2件):
B01D 53/34 ZAB C
, B01D 53/34 117 C
Fターム (15件):
4D002AB03
, 4D002AC10
, 4D002BA02
, 4D002BA17
, 4D002CA01
, 4D002CA02
, 4D002CA07
, 4D002DA59
, 4D002GA01
, 4D002GA02
, 4D002GA03
, 4D002GB01
, 4D002GB02
, 4D002GB06
, 4D002HA10
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