特許
J-GLOBAL ID：200903071098220950
熱処理装置およびそのための光照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-300196
公開番号（公開出願番号）：特開平11-135449
出願日： 1997年10月31日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】【課題】 ランプからの光照射による基板の熱処理装置において、基板の熱分布の空間的均一性を確保するとともに、ランプ劣化を早期に発見すること。【解決手段】 サイズが異なる半球状の反射ミラー101〜104を、相互に間隔を隔てて配置し、多層ミラー構造110とする。中心部G1およびミラー間の間隔空間G2〜G4には、個別に発光量が調整される複数のランプBL1〜BL4が配置され、それらに対応して光センサPS1〜PS4が設けられている。各ランプBL1〜BL4からの光は多層ミラー構造110内で互いに分離されたまま反射し、基板Wの同心円状の各エリアに照射される。これらのエリアは円形基板の外形に対応した対称性を有するため、ランプBL1〜BL4を個別に制御することにより、円形基板で生じやすい同心円状の温度分布を有効に補償可能である。光センサPS1〜PS4によって、各ランプBL1〜BL4の劣化は個別に検知される。
請求項（抜粋）：
光の照射によって基板の熱処理を行う装置であって、(a) 前記基板の外形に応じた形状を有し、かつサイズが互いに異なる複数の反射ミラーが互いに間隔を隔ててサイズ順に同心に積層配置されてなる多層ミラー構造と、(b) 前記複数の反射ミラーのうちの最小ミラーの中心部付近と前記間隔とのそれぞれに分散して配置された複数の発光体と、(c) 前記発光体ごとまたは前記複数の発光体の部分集合ごとに、各発光体からの発光量を調整する発光量調整手段と、を備え、前記複数の発光体からの光を前記複数の反射ミラーでそれぞれ反射させて、前記基板の同心状の複数のエリアへそれぞれ照射することを特徴とする基板の熱処理装置。
FI (2件)：
H01L 21/26 J
, H01L 21/26 T
