特許

J-GLOBAL ID：200903071103565111

光学活性高分子担持ロジウム錯体を用いる光学活性アルデヒドの製造方法

発明者： 玉尾 京子 ,  檜山 爲次郎 ,  佐用 昇
出願人/特許権者： 高砂香料工業株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-064998
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256248
出願日： 1999年03月11日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：

【要約】【課題】 不斉ヒドロホルミル化反応を用いた光学活性アルデヒドの製造方法として工業的に有利な方法を提供する。【解決手段】 一般式(2)【化1】(式中、R1 は置換基を有していてもよいアルキル、アルケニル、アリール又はアラルキル基を示し;R2 は水素原子又はアルキル基を示す。)で表わされるオレフィン化合物を、光学活性高分子担持ロジウム錯体を触媒として用いて、気相系又は超臨界流体中において、ヒドロホルミル化することを特徴とする一般式(1)【化2】(式中、R1 およびR2 は前記と同じ意味であり、*は不斉炭素原子を示す。)で表わされる光学活性アルデヒドの製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式(2)【化1】(式中、R1 は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を示し;R2 は水素原子又はアルキル基を示す。)で表わされるオレフィン化合物を、光学活性高分子担持ロジウム錯体を触媒として用いて、気相系又は超臨界流体中において、ヒドロホルミル化することを特徴とする一般式(1)【化2】(式中、R1 およびR2 は前記と同じ意味であり、*は不斉炭素原子を示す。)で表わされる光学活性アルデヒドの製造方法。

IPC (8件)：

C07C 45/50 ,  B01J 31/22 ,  C07B 53/00 ,  C07C 47/02 ,  C07C 47/20 ,  C07C 47/228 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00

FI (7件)：

C07C 45/50 ,  B01J 31/22 Z ,  C07B 53/00 B ,  C07C 47/02 ,  C07C 47/20 ,  C07C 47/228 ,  C07B 61/00 300

Fターム (24件)：

4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA15 ,  4G069BA16B ,  4G069BA27A ,  4G069BC71A ,  4G069BE11B ,  4G069CB51 ,  4G069DA05 ,  4G069EA01Y ,  4G069FB57 ,  4G069FB77 ,  4H006AA02 ,  4H006AC45 ,  4H006AC81 ,  4H006BA24 ,  4H006BA48 ,  4H006BA55 ,  4H006BC11 ,  4H006BC13 ,  4H006BE41 ,  4H039CA62 ,  4H039CF10 ,  4H039CL45