特許
J-GLOBAL ID：200903071135689130
重合メディエイター及びポリスチレン製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大野 彰夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-206106
公開番号（公開出願番号）：特開2001-081076
出願日： 2000年07月07日
公開日（公表日）： 2001年03月27日
要約：
【要約】【課題】 ラジカル重合反応をメディエイトするN-オキシル化合物、及び、摂氏70度乃至90度の反応温度でリビング的に進行するラジカル重合反応によるポリスチレンの製造方法を提供する。【解決手段】 スチレンを過酸化ベンゾイル及び式(I)【化1】で表わされる2,6-ジスピロ-1’,1”-ジシクロヘキシル-4-ヒドロキシピペリジン-N-オキシル化合物の存在下にラジカル重合させることを特徴とするポリスチレン製造方法。
請求項（抜粋）：
式(I)【化1】で表わされるN-オキシル化合物。
IPC (4件)：
C07D221/20
, C08F 2/38
, C08F 4/34
, C08F 12/08
C07D221/20
, C08F 2/38
, C08F 4/34
, C08F 12/08
