特許
J-GLOBAL ID：200903071135770574
エキシマ紫外線ランプを用いた浄水処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-136236
公開番号（公開出願番号）：特開平10-323663
出願日： 1997年05月27日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：
【要約】【課題】 オゾン処理と活性炭処理を用いた高度浄水過程、及び前塩素処理を採用した浄水過程で生成する臭素酸イオンを効率的に除去することができる浄水処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】 エキシマ紫外線処理槽5内にピーク波長が190(nm)から200(nm)の波長域を有するエキシマ紫外線ランプ5aを配置して、被処理水にエキシマ紫外線を照射することによって臭素酸イオンを除去するようにしたエキシマ紫外線ランプを用いた浄水処理方法を基本手段とする。具体的な装置例として、オゾン接触槽1と活性炭処理槽4及びエキシマ紫外線処理槽5とを備え、オゾン接触槽1で被処理水中にオゾンを放散した後に活性炭処理槽4に流入させて活性炭処理を行い、更にエキシマ紫外線処理槽5で前記エキシマ紫外線を照射することによってオゾン処理時に発生する臭素酸イオンを除去する。
請求項（抜粋）：
処理槽内にピーク波長が190(nm)から200(nm)の波長域を有するエキシマ紫外線ランプを配置して、被処理水にエキシマ紫外線を照射することによって臭素酸イオンを除去することを特徴とするエキシマ紫外線ランプを用いた浄水処理方法。
IPC (4件)：
C02F 1/32
, C02F 1/28
, C02F 1/58
, C02F 1/78
C02F 1/32
, C02F 1/28 D
, C02F 1/58 L
, C02F 1/78
