特許

J-GLOBAL ID：200903071160217189

荷電粒子線露光装置

発明者： 小池 薫
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-133651
公開番号（公開出願番号）：特開2000-323398
出願日： 1999年05月14日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：

【要約】【課題】 露光動作に並行してパターン転写特性低下の原因となる有機汚れ異物の装置内への固化の防止動作が行われる荷電粒子線露光装置を提供する。【解決手段】 加速電子線により成形絞り7のパターン16のウェハー12のレジストへの転写時に、加速電子線の照射によりレジストから生じる有機ガスによって、加速電子線の放射経路に配置される部材であるブランカ2、予備成形絞り4、成形偏向器6、成形絞り7、副偏向器9、焦点補正レンズ10、主偏向器11、対物絞り13に有機汚れ異物が付着しても、加速電子線の照射により、これらの部材の光触媒膜18に生成される電子・正孔対により、有機汚れ異物が分解気化され除去されるので、簡単な構成によって、露光動作に並行してパターン転写特性低下の原因となる有機汚れ異物の装置内への固化の防止動作を効率的に行うことが可能になる。

請求項（抜粋）：

加速荷電粒子線を、電子光学系を介してウェハーに照射し、該ウェハーにパターンを転写する荷電粒子線露光装置であり、前記加速荷電粒子線の放射経路領域内に位置する部材の表面に配設され、前記加速荷電粒子線の照射によって、有機汚れ異物を分解する光触媒機能を発揮する第1の光触媒膜を有することを特徴とする荷電粒子線露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B01J 35/02 ,  G03F 7/20 504

FI (3件)：

H01L 21/30 541 Z ,  B01J 35/02 J ,  G03F 7/20 504

Fターム (16件)：

2H097BA10 ,  2H097CA16 ,  4G069AA03 ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC03B ,  4G069BC12B ,  4G069BC13B ,  4G069BC50B ,  4G069CA10 ,  5F056AA06 ,  5F056CB02 ,  5F056CB40 ,  5F056EA12