特許
J-GLOBAL ID：200903071166290996

液中プラズマ発生装置および薄膜形成方法

発明者：
豊田 洋通

豊田 洋通 について

, 
野村 信福

野村 信福 について


出願人/特許権者：
株式会社テクノネットワーク四国

株式会社テクノネットワーク四国 について


代理人 (1件)： 松島 理
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-313979
公開番号（公開出願番号）：特開2004-152523
出願日： 2002年10月29日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：
【課題】本発明の目的は、液体中において高エネルギーのプラズマを簡易かつ安全に発生する方法および装置を提供することである。【解決手段】ドデカン等の液体2の中に加熱手段や真空装置により気泡4を発生させるとともに、電磁波発生装置である電極3により当該液体中で気泡4が発生している位置に電磁波を照射して気泡中に高エネルギーのプラズマを発生させることにより、シリコン基板等の基材5の表面にダイヤモンド状のアモルファス炭素膜を高速で形成することができるようなプラズマ発生装置を提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
液体中で気泡を発生させるための加熱手段と、液中に電磁波を放射するための電磁波プローブを有する液中プラズマ発生装置。
IPC (4件)：
H05H1/24 ,  B01J3/00 ,  B01J19/08 ,  C01B31/02
FI (4件)：
H05H1/24 ,  B01J3/00 J ,  B01J19/08 H ,  C01B31/02 101F
Fターム (14件)：
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC04 ,  4G075CA02 ,  4G075CA24 ,  4G075CA47 ,  4G075CA65 ,  4G075EC21 ,  4G146AA07 ,  4G146BA12 ,  4G146BC09 ,  4G146BC16 ,  4G146BC21 ,  4G146BC50
引用特許：
出願人引用 (3件)

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