特許

J-GLOBAL ID：200903071166835674

ラビング処理後の基板の洗浄方法並びに洗浄装置

発明者： 中村 次雄 ,  鈴木 聡 ,  芳谷 光明 ,  土屋 昭夫
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-094729
公開番号（公開出願番号）：特開平5-264942
出願日： 1992年03月21日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：

【要約】【目的】 液晶表示素子の配向膜形成工程において、水や純水を使用して枚葉処理方式でラビング処理後の基板を洗浄する場合に、基板表面に洗浄むらが発生するのを防止する。【構成】 ラビング処理後の基板Wを洗浄する前に、搬送されてくる基板の表面へ高圧スプレイ管20から純水28をカーテン状に流下させ、流動する純水で基板の表面全体を層状に覆い、この状態のまま基板を洗浄室12へ搬送する。

請求項（抜粋）：

液晶用基板の表面に形成された高分子膜の膜面をラビング処理した後にその基板の表面に洗浄液を供給して基板表面を洗浄する方法において、洗浄前に前記基板の表面に対し純水をカーテン状に流下させながら基板を純水の流下位置に対して相対的に移動させ、洗浄が開始される時点まで、基板上を流動する純水で基板の表面全体を層状に覆うようにすることを特徴とするラビング処理後の基板の洗浄方法。