特許
J-GLOBAL ID：200903071170847954
露光用マスクの製造方法及び製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-026763
公開番号（公開出願番号）：特開平8-220731
出願日： 1995年02月15日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：
【要約】【目的】 露光光の照射又は時間経過に伴う位相シフト膜の物性変動を防止することができ、パターン転写精度の向上に寄与し得る露光用マスクの製造方法を提供すること。【構成】 位相シフト膜を有する露光用マスクの製造方法において、石英製の透明基板501上にSiN位相シフト膜502を形成した後、位相シフト膜502を大気に晒すことなくオゾン雰囲気にて酸化させ、さらに低圧水銀ランプにより遠紫外線を均一に照射させて位相シフト膜502の改質・安定化処理を行うことにより、位相シフト膜502の光学定数を所望の位相差と透過率に調整し、次いで位相シフト膜502上にレジスト503を塗布し、次いでレジスト503を露光してレジストパターンを形成し、次いでレジストパターンをマスクに位相シフト膜502の露出している部分を除去することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透光性基板上に少なくとも位相シフト膜から成るパターンを有する露光用マスクの製造方法において、前記透光性基板上に前記位相シフト膜を成膜した後、大気に晒すことなく前記位相シフト膜の元素組成又は光学定数を変化させ、所望の位相差と透過率に調整することを特徴とする露光用マスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G03F 1/08 A
, G03F 1/08 B
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
