特許
J-GLOBAL ID：200903071176465220
カラーフィルタ基板及びその製造方法、該基板を用いた液晶素子
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 敬介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-333476
公開番号（公開出願番号）：特開平10-170712
出願日： 1996年12月13日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：
【要約】【課題】 耐熱性、耐溶剤性、解像性に優れ、且つ混色のないカラーフィルタを安価に製造する。【解決手段】 光透過性基板1上に遮光性樹脂組成物層2と、主鎖又は側鎖にシリコン原子を含有する感光性樹脂組成物層3を形成し、フォトマスクを用いてパターン露光して形成されたシリコーン樹脂層4をマスクとして遮光性樹脂組成物層2をパターニングしてブラックマトリクス5を形成し、該ブラックマトリクス5の開口部にインクジェット方式によりR,G,Bのインク7a〜7cを付与し、着色部8a〜8cからなるカラーフィルタ8を形成する。
請求項（抜粋）：
光透過性基板上にブラックマトリクスと該ブラックマトリクスの開口部に位置するカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、光透過性基板上に遮光性樹脂組成物層を形成する工程と、上記遮光性樹脂組成物層上に、主鎖又は側鎖にシリコン原子を含有する可溶性シリコーン樹脂を主成分とする感光性樹脂組成物層を形成する工程と、上記感光性樹脂組成物層をフォトリソグラフィーによりパターニングして一部を除去する工程と、上記パターニングされた感光性樹脂組成物層をマスクとして上記遮光性樹脂組成物層をパターニングして一部を除去し、ブラックマトリクスとする工程と、インクジェット方式により、上記ブラックマトリクスの開口部にインクを付与してカラーフィルタを形成する工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
