特許
J-GLOBAL ID:200903071178865331

デッピングマスク装置およびデッピングマスク方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石川 新 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-261057
公開番号(公開出願番号):特開2001-081579
出願日: 1999年09月14日
公開日(公表日): 2001年03月27日
要約:
【要約】【課題】 均一なマスク材の膜厚が得られ凸状被膜を防止できるデッピングマスク装置及びデッピングマスク方法を提供すること。【解決手段】 マスクを施す部品をセットする部品セットハンガと、同部品セットハンガを取付け同部品セットハンガを水平軸まわりに揺動回転する揺動部材を有する揺動デッピング機と、同揺動デッピング機の下方に昇降自在に備えられ上方が開いたデッピング槽とを有し、同デッピング槽は上昇した位置において中に入れたマスク材へ、前記揺動デッピング機に装着されている前記部品が揺動回転により少くとも下方に位置した時浸るよう設置されてなることを特徴とするデッピングマスク装置および同装置によるデッピングマスク方法。
請求項(抜粋):
マスクを施す部品をセットする部品セットハンガと、同部品セットハンガを取付け同部品セットハンガを水平軸まわりに揺動回転する揺動部材を有する揺動デッピング機と、同揺動デッピング機の下方に昇降自在に備えられ上方が開いたデッピング槽とを有し、同デッピング槽は上昇した位置において中に入れたマスク材へ、前記揺動デッピング機に装着されている前記部品が揺動回転により少くとも下方に位置した時浸るよう設置されてなることを特徴とするデッピングマスク装置。
Fターム (1件):
4K057WC10

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