特許

J-GLOBAL ID：200903071180157786

磁気ヘッドの製造方法

発明者： 村岸 勇夫 ,  関口 大好 ,  木村 忠司
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-252317
公開番号（公開出願番号）：特開2003-059015
出願日： 2001年08月23日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】 磁気ヘッドの製造工程で、絶縁ギャップ層に開口部を設けるにあたり、アフターコロージョンの発生がなく、開口部のエッジ部に再付着層が形成されない、開口部の加工方法を提供する。【解決手段】 磁気ヘッドの製造方法は、Fe-Niからなる磁気シールド層5上にAl2O3からなる絶縁ギャップ層6を配してなり前記絶縁ギャップ層6に開口部14を備える磁気ヘッドを製造する方法において、前記開口部14の形成をドライエッチングで行うこととして、その条件が、前記絶縁ギャップ層6が形成された基板の温度を60°C〜100°Cに保持すること、反応ガスとして用いるBCl3とCl2の混合ガス比を2:1〜1:0に保持すること、および、前記混合ガスの圧力を0.5Pa〜2.0Paに調圧すること、であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

Fe-Niからなる磁気シールド層上にAl2O3からなる絶縁ギャップ層を配してなり前記絶縁ギャップ層に開口部を備える磁気ヘッドを製造する方法において、前記開口部の形成をドライエッチングで行うこととして、その条件が、前記絶縁ギャップ層が形成された基板の温度を60°C〜100°Cに保持すること、反応ガスとして用いるBCl3とCl2の混合ガス比を2:1〜1:0に保持すること、および、前記混合ガスの圧力を0.5Pa〜2.0Paに調圧すること、であること、を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。

IPC (2件)：

G11B 5/39 ,  G11B 5/31

FI (4件)：

G11B 5/39 ,  G11B 5/31 A ,  G11B 5/31 K ,  G11B 5/31 M

Fターム (9件)：

5D033BB21 ,  5D033BB43 ,  5D033DA08 ,  5D033DA31 ,  5D034BA02 ,  5D034BA15 ,  5D034BB09 ,  5D034CA05 ,  5D034DA07