光導波路回路の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大西健治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-256453
公開番号（公開出願番号）：特開2000-089053
出願日： 1998年09月10日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【課題】コア間の距離を波長以下とした光導波路回路の製造方法において、低損失の分岐損あるいは高効率の光結合を実現する。【解決手段】光導波路回路における光導波路パターンを光結合部や分岐部分を境にして2分割し、まず、一方の光導波路に対応した第1コア部5を形成し、次にこの第1コア部を覆うようにクラッド膜6を形成することにより2光導波路間のクラッドを形成し、その後、他方の光導波路に対応した第2コア部を形成する。コア間のクラッド層を独立して形成するため、比較的低温の成膜工程によって、所望のコア間の距離を得ることができることになる。

請求項（抜粋）：

幹光導波路とそれに接続されたY分岐の一方の分岐光導波路とからなる第1光導波路と、前記幹光導波路に近接して配置された光結合用導波路とそれに接続されたY分岐の他方の分岐光導波路とからなる第2光導波路とを有する光導波路回路、の製造方法において、表面に下部クラッド層を有する基板上に第1コア層を堆積し、その後、当該第1コア層の不要部分をエッチング除去し、前記第1光導波路に対応したパターンの第1コア部を形成する工程と、次に、当該第1コア部を覆うように、前記幹光導波路と前記光結合用導波路との間隔に対応した厚さのコア間クラッド膜を堆積し、続いて、第2コア層を堆積する工程と、次に、当該第2コア層上に前記第2光導波路に対応したパターンのエッチングマスクを形成し、続いて、当該エッチングマスクを用いて当該コア層の不要部分をエッチング除去し、前記第2光導波路に対応したパターンの第2コア部を形成する工程と、を有することを特徴とした光導波路回路の製造方法。

Fターム (7件)：

2H047AA04 , 2H047AB04 , 2H047BB11 , 2H047EE05 , 2H047EE24 , 2H047GG02 , 2H047GG04

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