特許

J-GLOBAL ID：200903071196735887

投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法

発明者： 吉岡 均 ,  高橋 和弘
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-234100
公開番号（公開出願番号）：特開平7-066121
出願日： 1993年08月26日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：

【要約】【目的】 レチクル面の照明分布を適切に設定し高解像力の投影パターン像が得られる投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法を得ること。【構成】 光源からの光束を照明系により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する際、該照明系は該光源からの光束を集光して2次光源を形成し、該2次光源を該投影光学系の瞳面近傍に結像する光学系、該2次光源からの射出光束を制限する絞りと入射角度によって透過率が異なるコーティングを施した光学素子とを対向配置した絞り付きフィルターを複数設けた絞り付きフィルター機構を有し、該複数の絞り付きフィルターの中から1つを選択し、光路中に配置して被照射面上の照度分布を制御していること。

請求項（抜粋）：

光源からの光束を照明系により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する際、該照明系は該光源からの光束を集光して2次光源を形成し、該2次光源を該投影光学系の瞳面近傍に結像する光学系、該2次光源からの射出光束を制限する絞りと入射角度によって透過率が異なるコーティングを施した光学素子とを対向配置した絞り付きフィルターを複数設けた絞り付きフィルター機構を有し、該複数の絞り付きフィルターの中から1つを選択し、光路中に配置して被照射面上の照度分布を制御していることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 515 E ,  H01L 21/30 527