特許

J-GLOBAL ID：200903071202308910

位置合わせ方法

発明者： 入江 信行 ,  高根 栄二 ,  蛭川 茂
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-297121
公開番号（公開出願番号）：特開平5-304077
出願日： 1992年11月06日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：

【要約】【目的】 複数のショット領域が配列されたウエハの全面でアライメント精度を向上させる。【構成】 位置合わせすべきショット領域ESiと、9個のサンプルショットSA1 〜SA9 の各々との間の距離LK1〜LK9に応じて、サンプルショットSA1〜SA9 の各座標位置に重み付けを行い、この重み付けされた複数の座標位置を統計演算することによりパラメータa〜fを算出する。このパラメータa〜fを用いてショット領域ESiの座標位置を決定し、この決定された座標位置に従ってウエハWの移動位置を制御することにより、露光位置に対してショット領域ESiを位置合わせする。

請求項（抜粋）：

設計上の配列座標に従って基板上に規則的に配列された複数の処理領域の各々を、前記基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の基準位置に対して位置合わせする方法において、前記複数の処理領域のうち、予め特定処理領域として選択した少なくとも3つの処理領域の前記静止座標系上における座標位置を計測し、前記基板上の処理領域毎に、前記処理領域と前記少なくとも3つの特定処理領域の各々との間の距離に関する情報に基づいて、前記少なくとも3つの特定処理領域の前記静止座標系上における座標位置の各々に重み付けを行い、かつ該重み付けされた複数の座標位置を統計演算することにより、前記基板上の複数の処理領域の各々の前記静止座標系上における座標位置を決定することを特徴とする位置合わせ方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

引用特許：

出願人引用 (7件)

• 特開平2-294015
  
• 特開平4-116913
  
• 特開平3-287001
  
• 特開平4-148529
  
• 位置合わせ方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-047493   出願人：株式会社ニコン
• 露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-346072   出願人：株式会社ニコン
• 特開平4-134813