特許
J-GLOBAL ID:200903071205246169

非対称ジスルフィドの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三浦 良和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-394965
公開番号(公開出願番号):特開2003-192663
出願日: 2001年12月26日
公開日(公表日): 2003年07月09日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 製造工程において有害物質の副生が少なく、工業的規模の製造が可能であり、高収率で非対称ジスルフィド類を製造する方法を提供すること。【解決手段】 (1)反応式(I)で表される工程1、 R1SSR1 + 3Cl2 → 2R1SCl3 (I)(式中、R1は炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。)(2)工程1で得られたアルキルスルフェニルトリクロリドを加熱により脱塩酸してα-クロロアルキルスルフェニルクロリドとする反応式(II)で表される工程2、R1SCl3 → ClR2SCl + HCl (II)(式中、R2はR1から誘導されるアルキレン基を表す。)及び(3)工程2で得られたα-クロロアルキルスルフェニルクロリドをアルキルメルカプタンと反応させ非対称ジスルフィドを得る反応式(III)で表される工程3。ClR2SCl + R3SH → ClR2SSR3 (III)(式中、R3は炭素原子数1〜18のアルキル基を表す。)
請求項(抜粋):
以下の工程からなる非対称ジスルフィドの製造方法。(1)反応式(I)で表されるジアルキルジスルフィドを塩素と反応させてアルキルスルフェニルトリクロリドを合成する工程1、 R1SSR1 + 3Cl2 → 2R1SCl3 (I)(式中、R1は炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。)(2)工程1で得られたアルキルスルフェニルトリクロリドを加熱により脱塩酸してα-クロロアルキルスルフェニルクロリドとする反応式(II)で表される工程2、 R1SCl3 → ClR2SCl + HCl (II)(式中、R2はR1から誘導されるアルキレン基を表す。)及び(3)工程2で得られたα-クロロアルキルスルフェニルクロリドをアルキルメルカプタンと反応させ非対称ジスルフィドを得る反応式(III)で表される工程3。 ClR2SCl + R3SH → ClR2SSR3 (III)(式中、R3は炭素原子数1〜18のアルキル基を表す。)
IPC (3件):
C07C319/24 ,  C07C323/03 ,  C07C381/00
FI (3件):
C07C319/24 ,  C07C323/03 ,  C07C381/00
Fターム (8件):
4H006AA02 ,  4H006AC13 ,  4H006AC30 ,  4H006AC63 ,  4H006BC10 ,  4H006BE53 ,  4H006TA04 ,  4H006TB54
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • ジスルフィド化合物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-295141   出願人:旭電化工業株式会社
引用文献:
審査官引用 (3件)

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