特許

J-GLOBAL ID：200903071218860281

荷電粒子ビ-ム出射装置

発明者： 田所 昌宏 ,  平本 和夫 ,  廣田 淳一 ,  西 正嗣
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-074962
公開番号（公開出願番号）：特開平11-312600
出願日： 1993年06月25日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：

【要約】【課題】高効良く荷電粒子ビームを出射することができる荷電粒子ビーム出射装置を提供する。【解決手段】高周波信号発生装置11は複数の周波数成分を有する高周波信号15を発生し、高周波信号15は、ゲインコントローラ13により電極7に印加すべき振幅に調整された後、高周波電圧16として電極7に印加される。電極7は、印加された高周波電圧16に応じた高周波電磁界発生して荷電粒子ビームに印加する。

請求項（抜粋）：

高周波信号を出力する高周波信号発生装置と、前記高周波信号発生装置から出力された高周波信号に基づいて高周波電磁界を発生し、発生した高周波電磁界を荷電粒子ビームに印加することによって加速器から荷電粒子ビームを出射する電磁界印加装置とを備えた荷電粒子ビーム出射装置であって、前記高周波信号発生装置は、複数の周波数成分を含む周波数領域の高周波スペクトルデータを逆フーリエ変換を用いて時間領域に変換することにより高周波データを作成する演算器と、前記演算器により作成された前記高周波データをアナログ信号に変換するD/Aコンバータとを有し、前記D/Aコンバータにより得られたアナログ信号を前記高周波信号として出力することを特徴とする荷電粒子ビーム出射装置。

IPC (3件)：

H05H 7/10 ,  G21K 5/04 ,  H05H 13/04

FI (3件)：

H05H 7/10 ,  G21K 5/04 D ,  H05H 13/04 G