特許
J-GLOBAL ID:200903071223968228

ポリフェニルスルホン中空糸膜の製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 俊夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-221892
公開番号(公開出願番号):特開2001-046847
出願日: 1999年08月05日
公開日(公表日): 2001年02月20日
要約:
【要約】【課題】 強度の低下やピンホール発生の原因となり得るフィンガー構造やボイド構造を全く含まず、限外ロ過膜などとして好適に用いられるポリフェニルスルホン中空糸膜の製造法を提供する。【解決手段】 ポリフェニルスルホンおよび親水性ポリビニルピロリドンの水溶性有機溶媒溶液よりなる紡糸原液を用い、中空糸膜を製造するに際し、ポリフェニルスルホンに対するポリビニルピロリドンの配合比率が80重量%以上であり、かつ親水性有機溶媒がジメチルホルムアミドである紡糸原液を用いてポリフェニルスルホン中空糸膜を製造する。
請求項(抜粋):
ポリフェニルスルホンおよび親水性ポリビニルピロリドンの水溶性有機溶媒溶液よりなる紡糸原液を用い、中空糸膜を製造するに際し、ポリフェニルスルホンに対するポリビニルピロリドンの配合比率が80重量%以上であり、かつ親水性有機溶媒がジメチルホルムアミドである紡糸原液が用いられることを特徴とするポリフェニルスルホン中空糸膜の製造法。
IPC (2件):
B01D 71/68 ,  B01D 69/08
FI (2件):
B01D 71/68 ,  B01D 69/08
Fターム (13件):
4D006GA06 ,  4D006MA01 ,  4D006MA28 ,  4D006MA33 ,  4D006MB02 ,  4D006MB05 ,  4D006MB11 ,  4D006MB15 ,  4D006MB16 ,  4D006MC40X ,  4D006MC62X ,  4D006NA04 ,  4D006NA10
引用特許:
出願人引用 (2件)

前のページに戻る