特許

J-GLOBAL ID：200903071227878428

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： 渡辺 淳一
出願人/特許権者： ミツミ電機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-119984
公開番号（公開出願番号）：特開2000-311310
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：

【要約】【課題】 薄膜磁気ヘッドにおける磁気ギャップのデプスを精度良く形成する。【解決手段】 下部磁極と上部磁極との間に磁気ギャップが形成された薄膜磁気ヘッドの製造方法において、下部磁極(2)を形成する下部磁極形成工程と、下部磁極上に磁気ギャップ形成層(3a)を形成する磁気ギャップ形成層形成工程と、磁気ギャップ(G)のデプス終端位置に非磁性金属(6)を形成する非磁性金属形成工程と、上部磁極(5)を形成する上部磁極形成工程とを有し、非磁性金属(6)を形成する工程と同時に磁気ギャップのデプス研磨用のマーカー(11)を形成するマーカー形成工程とを具える。

請求項（抜粋）：

下部磁極と上部磁極との間に磁気ギャップが形成された薄膜磁気ヘッドの製造方法において、上記下部磁極を形成する下部磁極形成工程と、上記下部磁極上に磁気ギャップ形成層を形成する磁気ギャップ形成層形成工程と、上記磁気ギャップのデプス終端位置に非磁性金属を形成する非磁性金属形成工程と、上記上部磁極を形成する上部磁極形成工程とを有し、上記非磁性金属を形成する工程と同時に上記磁気ギャップのデプス研磨用のマーカーを形成するマーカー形成工程とを具えたことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

FI (2件)：

G11B 5/31 A ,  G11B 5/31 N

Fターム (9件)：

5D033BA12 ,  5D033BA22 ,  5D033BA35 ,  5D033BA42 ,  5D033BA62 ,  5D033BA80 ,  5D033DA02 ,  5D033DA13 ,  5D033DA31