特許

J-GLOBAL ID：200903071231551280

フォトレジスト組成物

発明者： 福井 信人 ,  高橋 憲司
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-114823
公開番号（公開出願番号）：特開平9-297401
出願日： 1996年05月09日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：

【要約】【課題】 感度、解像度、耐熱性、残膜率、塗布性、プロファイルなどの諸性能に優れ、特にタイム・ディレイ効果に対する耐性に優れるポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 酸発生剤(A)、アルカリに対して不溶性または難溶性の状態から、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂(B)、ならびに、α,β-不飽和カルボン酸のエステルおよびα,β,α′,β′-不飽和ケトンから選ばれる不飽和化合物(C)を含有するポジ型フォトレジスト組成物。この組成物はさらに、塩基性有機化合物(D)、電子供与体(E)などを含有することもできる。【効果】 環境による影響を受けにくく、高感度、優れた解像度、優れたプロファイルを示し、高精度の微細なフォトレジストパターンが形成できる。

請求項（抜粋）：

酸発生剤(A)、アルカリに対して不溶性または難溶性の状態から、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂(B)、ならびに、α,β-不飽和カルボン酸のエステルおよびα,β,α′,β′-不飽和ケトンから選ばれる不飽和化合物(C)を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/30 502 R