特許

J-GLOBAL ID：200903071243555191

投影露光装置,投影露光方法,パターン検出装置及び半導体製造方法

発明者： 青柳 正美 ,  杉山 秀司 ,  林 広一郎 ,  佐瀬 善光
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立計測エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-306214
公開番号（公開出願番号）：特開平7-161608
出願日： 1993年12月07日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：

【要約】【目的】半導体製造装置に用いられる投影露光装置のパターン検出器において、安定したアライメントパターンの位置検出を行うことを目的とする。【構成】白色光源(12)からの光を照明光波長選択器14を介してウェーハ(6)の合わせマーク(7)に照射し、照明光波長選択器14により任意の波長域の光を選択する。

請求項（抜粋）：

レチクルの原画を投影レンズを介してウェーハに転写し、さらに、所定の波長範囲の光を前記ウェーハのパターンに照射し、この反射光を検知して前記レチクルと前記ウェーハの相対的位置を整合させる投影露光装置において、前記パターンを照射する光の波長範囲を選択する波長範囲選択手段を備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭60-080223
  
• 特開平4-267536
  
• 光投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-304500   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平3-166712