特許

J-GLOBAL ID：200903071245860633

光化学気相成長装置

発明者： 五戸 成史 ,  玉川 孝一 ,  松尾 弘史 ,  鈴木 章敏 ,  中山 泉
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 八木田 茂 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-084136
公開番号（公開出願番号）：特開平6-020959
出願日： 1991年04月16日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 反応槽内における反応のキレを良くし、膜厚や界面を制御できるようにした光化学気相成長装置。【構成】 光透過窓7を通して紫外光または真空紫外光を反応槽1内へ照射し導入された反応ガスを分解させて基板3上に膜を堆積させる光源8と反応槽1との間に光学的に隔離するシャッタ機構17を設けた光化学気相成長装置。

請求項（抜粋）：

反応ガスを導入する反応ガス導入口及び光透過窓を備えた反応槽と、光透過窓を通して紫外光または真空紫外光を反応槽内へ照射し導入された反応ガスを分解させて基板上に膜を堆積させる光源と、光源と反応槽とを光学的に隔離するシャッタ機構とを有することを特徴とする光化学気相成長装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/48 ,  C23C 16/52

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-131428
  
• 特開平1-138713
  
• 特開平1-302718
  
• 特開平3-006017