特許
J-GLOBAL ID：200903071247204539
ビームエキスパンダおよび光学系およびレーザ加工装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-045824
公開番号（公開出願番号）：特開平7-253556
出願日： 1994年03月16日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：
【要約】【目的】 レーザ光の中心部のパワー密度をその周辺部のパワー密度よりも小さくなるように変換する。【構成】 本発明のビームエキスパンダは、入射されるレーザ光6をビーム拡大部1において拡大して出射し、反射ミラーブロック2において、前記ビーム拡大部1から出射されたレーザ光6bを周辺方向にシフトし、周辺部ビーム縮小部5において、前記反射ミラーブロック2から出射されたレーザ光6のうち周辺部分のレーザ光6bおよび6cのみを縮小する。
請求項（抜粋）：
入射されるレーザ光の径を拡大して出射する第一のビーム拡大部と、前記ビーム拡大部から出射されたレーザ光のうち周辺部分のレーザ光の径のみを縮小する周辺部ビーム縮小部とを有することを特徴とするビームエキスパンダ。
IPC (3件)：
G02B 27/09
, B23K 26/00
, B23K 26/06
